Интерфакс: Мэр Москвы Сергей Собянин сообщил, что компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый в РФ фотолитограф с разрешением 350 нанометров.
«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства», — написал он в своем телеграм-канале в субботу.
Мэр отметил, что российский фотолитограф создан в партнерстве с белорусским заводом. Также отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. «Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром», — добавил Собянин.
По его словам, на фотолитограф уже есть заказчик. Технологические процессы адаптируют к особенностям производства конечного потребителя.
Также в настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.
Источник: https://www.interfax.ru/moscow/1016045
Комментарии закрыты, но трекбэки и пингбэки открыты.